[发明专利]硅片表面钝化方法无效
申请号: | 201210284150.0 | 申请日: | 2012-08-12 |
公开(公告)号: | CN102856432A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 刘瑞柱;孙志刚;刘茂华;韩子强;石坚;王俊涛;熊涛涛 | 申请(专利权)人: | 安阳市凤凰光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/306 |
代理公司: | 安阳市智浩专利代理事务所 41116 | 代理人: | 王好勤 |
地址: | 456400 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 硅片表面钝化方法,涉及太阳能光伏硅片检测技术领域,包括:将清洗后的硅片放入化学抛光液中,进行化学抛光以去除硅片表面损伤层,其中抛光液的配比为氢氟酸:硝酸=1:3~6;2~5分钟后从抛光液中取出用去离子水漂洗干净;将抛光后的硅片放入塑料自封袋中,用滴管吸取配制好的钝化液滴入装有硅片的自封袋中,同时将钝化液均匀地滩涂在硅片表面,其中钝化液的配比为高纯固体碘:无水酒精=1g:50~100ml;10~20分钟后放入WT-2000少子寿命测试仪中进行测试,少子寿命会有明显提升。本发明的有益效果是:解决了硅片少子寿命测量误差偏大导致质量误判的问题,硅片表面钝化可以有效地降低表面少子寿命复合率,少子寿命提高10~30倍,真实的反应出硅片的质量。 | ||
搜索关键词: | 硅片 表面 钝化 方法 | ||
【主权项】:
硅片表面钝化方法,其特征在于,包括以下步骤:a将清洗后的硅片放入化学抛光液中进行化学抛光2~5分钟,去除表面损伤层;其中,所述抛光液配比为氢氟酸:硝酸=1:3~6,所述氢氟酸浓度为38~50%;硝酸浓度为55~70%;b漂洗干净;所述漂洗指用去离子水进行漂洗;c装入塑料自封袋,将配制好的钝化液用滴管慢慢滴入塑料袋中进行钝化,钝化时间为10~20分钟;所述钝化液的配比为高纯固体碘:无水酒精=1g:50~100ml;固体碘的纯度为99.5~99.9%;d将钝化液均匀地滩涂在硅片表面,放入WT-2000中进行少子寿命测试。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安阳市凤凰光伏科技有限公司,未经安阳市凤凰光伏科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210284150.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:带散热器的路由器
- 下一篇:一种掺碳钛宝石晶体及其生长方法和应用
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的