[发明专利]用于CVD反应器中的电极固定器的保护性装置有效
申请号: | 201210232308.X | 申请日: | 2012-07-05 |
公开(公告)号: | CN102864440A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | B·米勒;H·克劳斯;E·蒙茨;M·索芬 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学股份公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/24;C01B33/027 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 过晓东;谭邦会 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及用于保护CVD反应器中电极固定器的装置,所述装置包括电极固定器上的适用于容纳丝棒的电极,所述电极固定器由导电材料构成,并且安装在底板的凹进部分中,其中电极固定器与底板之间的中间空间用密封材料密封,密封材料通过保护体保护,保护体由一个或多个部件制得,并以环状方式布置在电极周围,保护体的高度至少在电极固定器方向的区段增加。 | ||
搜索关键词: | 用于 cvd 反应器 中的 电极 固定器 保护性 装置 | ||
【主权项】:
用于保护CVD反应器中电极固定器的装置,所述装置包括电极固定器上的适用于容纳丝棒的电极,所述电极固定器由导电材料构成,并且安装在底板的凹进部分中,其中电极固定器与底板之间的中间空间借助于密封材料密封,而密封材料通过保护体保护,保护体由一个或多个部件制得,并以环状方式布置在电极周围,保护体的高度至少在电极固定器方向的区段中增加。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的