[发明专利]从曝光结果改进光学邻近模拟的方法

摘要

本发明公开了一种用以改进光学邻近模拟的方法，其包含下列步骤：首先，判定多个曝光数据；提供对应所述曝光数据且从多个原始模拟参数中产生的一原始模拟结果。之后，检验来自所述原始模拟结果与所述曝光结果的原始误差值来判定其是否位于一预定范围内。接下来，所述原始模拟参数会被调整来获得调整后的模拟参数。所述调整后误差值位于预定范围内的调整后模拟参数会被收集来获得一用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。

主权项

一种从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，包含：判定来自一曝光结果的曝光信息的多个曝光数据；提供对应所述曝光结果且从多个原始模拟参数所产生的一原始模拟结果；检验从所述原始模拟结果及从所述曝光结果所获得的一原始误差值是否位于一预定范围内；调整所述多个原始模拟参数以获得调整后的模拟参数及一调整后的模拟结果，并在所述原始误差值未位于所述预定范围内时检验从所述调整后模拟结果以及从所述曝光结果所获得的一调整后误差值；调整所述调整后模拟参数直到所述调整后误差值位于所述预定范围内为止；以及收集所述调整后误差值位于所述预定范围内的所述调整后模拟参数，以获得用以在光掩模上输出图形的一光学邻近修正模型。