[发明专利]极紫外光刻掩模缺陷检测系统

摘要

本发明公开了一种极紫外光刻掩模缺陷检测系统，该极紫外光刻掩模缺陷检测系统包括极紫外光源、极紫外光传输系统(包括多层膜平面反射镜和多层膜凹面聚光镜)、极紫外光刻掩模、样品扫描台、光子筛、CCD相机、PC机、隔振台、真空腔和多层膜半反半透镜。该极紫外光刻掩模缺陷检测系统利用光子筛代替传统的史瓦西透镜，实现极紫外波段对掩模的成像，从而对掩模上的缺陷进行检测。本发明利用光子筛的体积小、易加工、低成本和分辨率强的特性代替了加工难度极大、成本高昂和体积大的史瓦西透镜，实现成本较低、体积较小并且分辨率强的极紫外光刻掩模缺陷检测装置。

主权项

一种极紫外光刻掩模缺陷检测系统，其特征在于，该系统包括极紫外光源(1)、具有多层膜凹面聚光镜(2)和多层膜平面反射镜(3)的极紫外光传输系统、极紫外光刻掩模(4)、样品扫描台(5)、光子筛(6)、CCD相机(7)、PC机(8)、隔振台(9)、真空腔(10)和多层膜半反半透镜(11)，其中：极紫外光源(1)经过激发后，发出点光源光束经过多层膜凹面聚光镜(2)，聚焦到多层膜平面反射镜(3)上，经过多层膜半反半透镜(11)，然后照明光子筛(6)，光束被光子筛(6)聚焦到极紫外光刻掩模板4上，当聚焦光束从极紫外光刻掩模板4反射回来后，反射光携带缺陷图形信息被光子筛(6)聚焦至多层膜半反半透镜(11)，反射光被多层膜半反半透镜(11)部分反射聚焦成像在CCD相机(7)上，CCD相机(7)将光子筛所成暗场像转换为数字信息，传输到PC机(8)中，PC机(8)确定缺陷类型和缺陷位置；然后样品扫描台(5)再次调整极紫外光刻掩模(4)位置，重新成像，直到扫面完整块极紫外光刻掩模(4)。