[发明专利]用于半导体制造工具的过滤系统

摘要

本发明提供一种用于半导体制造工具的过滤系统。在一个实施方案中，该过滤系统于半导体制造工具相结合。本发明的系统包括与气流径流体连通的第一和第二过滤层。气流径是含有挥发性的硅化物(例如，六甲基二硅氧烷和三甲基硅烷醇)的气体流。气流径通过第一和第二过滤层以与半导体制造工具流体连通。优选的是，过滤系统的第一过滤层沿着气流径在第二过滤层的上游。第一和第二过滤层的介质以特定的污染物浓度为基础加以挑选和安排的。本发明也提供一种用于过滤与半导体制造工具连通的含有六甲基二硅氧烷和三甲基硅烷醇的气体的方法，其中使用一种包含第一和第二过滤层的过滤系统。

主权项

一种过滤包括六甲基二硅氧烷和三甲基硅烷醇的污染物的气体细流的方法，所述气体细流与半导体制程工具连通，该方法包括：提供与气流径流体连通的具有第一物理吸附过滤层和第二化学吸附过滤层的过滤系统，其中所述第一物理吸附过滤层是沿着气流径在所述化学吸附层的上游；通过过滤系统的第一过滤层传递该气体细流；以及通过过滤系统的第二过滤层传递该气体细流，以从该气体细流中移除六甲基二硅氧烷和三甲基硅烷醇污染物。