[发明专利]悬浮纳米线场效应晶体管及其形成方法有效
申请号: | 201210113567.0 | 申请日: | 2012-04-17 |
公开(公告)号: | CN103377927A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 张海洋;王冬江 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/336 | 分类号: | H01L21/336;H01L29/78;H01L29/10 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种悬浮纳米线场效应晶体管及其形成方法,形成方法包括:提供衬底,衬底上形成有栅极;在栅极周围形成第一侧墙和第二侧墙,第一侧墙位于第二侧墙和栅极之间,且第二侧墙的材料为金属;形成源极和漏极,在垂直栅极延伸方向源极和漏极横跨栅极、第一侧墙、第二侧墙;在形成源极和漏极之前或之后,在第二侧墙裸露在外的表面形成石墨烯层;去除源极和漏极之间的第二侧墙部分,使源极和漏极之间的石墨烯层部分呈悬浮状态,且源极和漏极之间的石墨烯层部分作为纳米沟道。本技术方案,当场效应晶体管处于关闭状态时,可以降低栅极和源极、漏极之间具有的漏电流;另外,由于石墨烯的导电性非常好,因此可以提高悬浮纳米线场效应晶体管的性能。 | ||
搜索关键词: | 悬浮 纳米 场效应 晶体管 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种形成悬浮纳米线场效应晶体管的方法,其特征在于,包括:提供衬底,所述衬底上形成有栅极;在所述栅极周围形成第一侧墙和第二侧墙,所述第一侧墙位于第二侧墙和所述栅极之间,且所述第二侧墙的材料为金属;形成源极和漏极,在垂直所述栅极延伸方向所述源极和漏极横跨所述栅极、第一侧墙、第二侧墙;在所述第二侧墙裸露在外的表面形成石墨烯层;去除源极和漏极之间的第二侧墙部分,使源极和漏极之间的石墨烯层部分呈悬浮状态,且所述源极和漏极之间的石墨烯层部分作为纳米沟道。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210113567.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种小喇叭架
- 下一篇:一种翻盖铰链及翻盖手机
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造