[发明专利]悬浮纳米线场效应晶体管及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201210113567.0 申请日: 2012-04-17
公开(公告)号: CN103377927A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 张海洋;王冬江 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L29/78;H01L29/10
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种悬浮纳米线场效应晶体管及其形成方法,形成方法包括:提供衬底,衬底上形成有栅极;在栅极周围形成第一侧墙和第二侧墙,第一侧墙位于第二侧墙和栅极之间,且第二侧墙的材料为金属;形成源极和漏极,在垂直栅极延伸方向源极和漏极横跨栅极、第一侧墙、第二侧墙;在形成源极和漏极之前或之后,在第二侧墙裸露在外的表面形成石墨烯层;去除源极和漏极之间的第二侧墙部分,使源极和漏极之间的石墨烯层部分呈悬浮状态,且源极和漏极之间的石墨烯层部分作为纳米沟道。本技术方案,当场效应晶体管处于关闭状态时,可以降低栅极和源极、漏极之间具有的漏电流;另外,由于石墨烯的导电性非常好,因此可以提高悬浮纳米线场效应晶体管的性能。
搜索关键词: 悬浮 纳米 场效应 晶体管 及其 形成 方法
【主权项】:
一种形成悬浮纳米线场效应晶体管的方法,其特征在于,包括:提供衬底,所述衬底上形成有栅极;在所述栅极周围形成第一侧墙和第二侧墙,所述第一侧墙位于第二侧墙和所述栅极之间,且所述第二侧墙的材料为金属;形成源极和漏极,在垂直所述栅极延伸方向所述源极和漏极横跨所述栅极、第一侧墙、第二侧墙;在所述第二侧墙裸露在外的表面形成石墨烯层;去除源极和漏极之间的第二侧墙部分,使源极和漏极之间的石墨烯层部分呈悬浮状态,且所述源极和漏极之间的石墨烯层部分作为纳米沟道。
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