[发明专利]多光束并行激光直写装置及其直写方法无效

专利信息
申请号: 201210112339.1 申请日: 2012-04-17
公开(公告)号: CN102621823A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 朱锋;周常河;麻健勇 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/28;G02B5/18
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种多光束并行激光直写装置及其直写方法,本发明将达曼光栅分光器件结合双光子吸收具有稳定性好、分辨率高的特点,易于制作周期性微纳结构材料,可以上百倍地提高加工效率,本发明非常适用于大面积周期性微纳光学结构的加工和工业生产。
搜索关键词: 光束 并行 激光 装置 及其 方法
【主权项】:
一种多光束并行激光直写装置,包括刻写光路、探测光路、三维移动机构和计算机,其特征在于:所述的刻写光路包括飞秒激光器(1),沿该飞秒激光器(1)的激光输出前进方向,依次是小孔光阑(2)、扩束透镜组(3)、达曼光栅(4)、第一扩束透镜(6)、渐变折射率滤波片(7)、第二扩束透镜(8)、转接透镜组(9和10)、光谱分光镜(11)、显微物镜(20)和刻写材料(21),该刻写材料(21)置于所述的三维移动机构上,该三维移动机构由自上而下的z向压电陶瓷驱动器(22)、高精度调平台(23)和二维位移台(24)组成;所述的探测光路包括光纤激光器(15)、光束扩束会聚系统(14)、偏振分光棱镜(13)、四分之一波片(12)、光谱分光镜(11)、滤光片(16)、透镜(17)、 ­柱面透镜(18)、四象限探测器(19),该探测光路的顺序是:光纤激光器(15)输出的线偏振光经过扩束会聚系统(14)后的扩束光束经过偏振分光棱镜(13)反射后向下,经过四分之一波片(12)将线偏振光变为圆偏振光,透过光谱分光镜(11)、显微物镜(20)入射到刻写材料(21)表面,经该刻写材料(21)表面反射后依次经过显微物镜(20)、光谱分光镜(11)、四分之一波片(12)并变为线偏振光,且偏振方向与入射光垂直,而后透过偏振分光棱镜(13),并依次经过滤光片(16)、透镜(17)和柱面透镜(18),被所述的四象限探测器(19)接收;所述的四象限探测器(19)的输出端与计算机(25)的输入端相连,该计算机(25)的输出端与所述的z向压电陶瓷驱动器(22)和二维位移台(24)的控制端相连。
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