[发明专利]制造薄膜太阳能电池的化学浴沉积设备及方法无效

专利信息
申请号: 201210072227.8 申请日: 2012-03-19
公开(公告)号: CN103184439A 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 谢育和;陈彦良;郑昌泰;张宝元 申请(专利权)人: 纯化科技股份有限公司
主分类号: C23C18/12 分类号: C23C18/12;H01L21/02;H01L31/18
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;韩蕾
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及一种化学浴沉积设备,用以沉积一薄膜于薄膜太阳能电池用的基材,包括:一机架、一基材托座、一覆盖罩、一摆动机构以及一离心运动机构。通过摇摆机构及离心运动机构,驱动该基材托座进行摇摆及离心运动,以产生该反应溶液相对该基材的运动,但维持该反应溶液覆盖该基材。本发明的化学浴沉积设备及方法可应用于制造薄膜太阳能电池的如CdS、ZnS、InS等所构成的缓冲层,通过低温工艺、低成本的设备、简单的工艺以及减少反应溶液的使用量,形成薄且均匀的薄膜,可只有对基板的单面进行薄膜沉积,薄膜的缺陷少而提高薄膜太阳能电池的效率及降低薄膜太阳能电池的制造成本。
搜索关键词: 制造 薄膜 太阳能电池 化学 沉积 设备 方法
【主权项】:
一种化学浴沉积设备,用以沉积一薄膜于薄膜太阳能电池用的基材,包括:一机架,具有一真空室,所述真空室与一真空装置连接,使所述真空室的气体压力小于大气压力;一基材托座,具有多个第一开口,与所述机架的真空室连通,所述基材托座隔着一第一密封构件设置于所述机架上,所述基材托座是用以容置所述基材,使所述基材的一待处理面对向的面与所述基材托座接触,通过所述多个第一开口的真空吸引力而使所述基材与所述基材托座密合;一覆盖罩,具有至少一第二开口,作为一反应溶液的入口及出口,其中,所述覆盖罩隔着一第二密封构件设置于所述基材上,所述覆盖罩与所述基材之间形成一容置空间,用以容纳所述反应溶液;一摆动机构,用以驱动该机架进行摇摆,以产生所述反应溶液相对所述基材的运动,但维持所述反应溶液覆盖所述基材;以及一离心运动机构,用以驱动所述机架进行离心运动,以产生所述反应溶液相对所述基材的运动,但维持所述反应溶液覆盖所述基材;其中,所述容置空间的温度被控制于一预定的范围内。
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