[发明专利]制造薄膜太阳能电池的化学浴沉积设备及方法无效
申请号: | 201210072227.8 | 申请日: | 2012-03-19 |
公开(公告)号: | CN103184439A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 谢育和;陈彦良;郑昌泰;张宝元 | 申请(专利权)人: | 纯化科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12;H01L21/02;H01L31/18 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;韩蕾 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 薄膜 太阳能电池 化学 沉积 设备 方法 | ||
1.一种化学浴沉积设备,用以沉积一薄膜于薄膜太阳能电池用的基材,包括:
一机架,具有一真空室,所述真空室与一真空装置连接,使所述真空室的气体压力小于大气压力;
一基材托座,具有多个第一开口,与所述机架的真空室连通,所述基材托座隔着一第一密封构件设置于所述机架上,所述基材托座是用以容置所述基材,使所述基材的一待处理面对向的面与所述基材托座接触,通过所述多个第一开口的真空吸引力而使所述基材与所述基材托座密合;
一覆盖罩,具有至少一第二开口,作为一反应溶液的入口及出口,其中,所述覆盖罩隔着一第二密封构件设置于所述基材上,所述覆盖罩与所述基材之间形成一容置空间,用以容纳所述反应溶液;
一摆动机构,用以驱动该机架进行摇摆,以产生所述反应溶液相对所述基材的运动,但维持所述反应溶液覆盖所述基材;以及
一离心运动机构,用以驱动所述机架进行离心运动,以产生所述反应溶液相对所述基材的运动,但维持所述反应溶液覆盖所述基材;
其中,所述容置空间的温度被控制于一预定的范围内。
2.如权利要求1所述的化学浴沉积设备,其中,所述机架还包括一加热板,设置靠近所述基材托座,用以加热所述基材。
3.如权利要求1所述的化学浴沉积设备,其中,所述覆盖罩还具备一加热器,与一温度控制器连接,控制所述容置空间的温度。
4.如权利要求1所述的化学浴沉积设备,其中,所述反应溶液是由包含硫脲及去离子水的溶液与包含硫酸镉或硫酸锌、氨及去离子水的溶液混合所构成,且所述薄膜为CdS或ZnS所构成。
5.如权利要求1所述的化学浴沉积设备,其中,所述反应溶液在所述基材的被处理面形成一薄膜时会产生气泡。
6.如权利要求1所述的化学浴沉积设备,其中,所述基材为制造薄膜太阳能电池过程中的基板。
7.如权利要求1所述的化学浴沉积设备,其中,所述离心运动机构是以所述机架在水平面的几何中心作为一基准点,使所述基准点沿一椭圆移动,而使所述机架在水平面重复绕行所述椭圆运动。
8.如权利要求1所述的化学浴沉积设备,其中,所述离心运动机构是以所述机架在水平面的几何中心作为中心点,使所述机架在水平面进行自转的运动。
9.如权利要求1所述的化学浴沉积设备,其中,所述离心运动机构是以所述机架在水平面的几何中心作为中心点,使所述机架在水平面进行自转的运动,且以所述机架在水平面的几何中心作为一基准点,使所述基准点沿一椭圆移动,而使所述机架在水平面重复绕行所述椭圆运动。
10.如权利要求1所述的化学浴沉积设备,其中,所述摆动机构是以所述机架在水平面的一任意轴,作为一摆动轴,使所述机架以所述摇摆轴进行上下摇摆。
11.如权利要求1所述的化学浴沉积设备,其中,所述覆盖罩还具有一凹槽,位于所述覆盖罩的下缘,所述凹槽中填充有多孔性材料,用以捕捉微粒子。
12.一种化学浴沉积方法,包括:
提供一基材,设置于所述基材托座上,其中,所述基材具有一第一表面及与所述第一表面对向的一第二表面;
提供一基材托座,将所述基材设置于所述基材托座上,使所述基材的所述第一表面贴附于所述基材托座上而露出所述第二表面,作为被处理面;
提供一覆盖罩,设置于所述基材上,使所述覆盖罩与所述基材构成一容置空间;
提供一反应溶液,从所述覆盖罩的一开口注入所述容置空间中,使所述基材的被处理面接触所述反应溶液;以及
通过一摆动机构及一离心运动机构,驱动所述基材托座进行摇摆及离心运动,以产生所述反应溶液相对所述基材的运动,但维持所述反应溶液覆盖所述基材。
13.如权利要求12所述的方法,其中,所述离心运动机构是以所述机架在水平面的几何中心作为一基准点,使所述基准点沿一椭圆移动,而使所述机架在水平面重复绕行所述椭圆运动。
14.如权利要求12所述的方法,其中,所述离心运动机构是以所述机架在水平面的几何中心作为中心点,使所述机架在水平面进行自转的运动。
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