[发明专利]一种降低电解铜箔粗糙度的表面处理工艺有效
申请号: | 201210062003.9 | 申请日: | 2012-03-12 |
公开(公告)号: | CN102586831A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 杨祥魁;徐树民;刘建广;马学武;宋召霞;徐策;王涛 | 申请(专利权)人: | 山东金宝电子股份有限公司 |
主分类号: | C25D7/06 | 分类号: | C25D7/06;C23G1/10;C23F1/18;C25D3/56;C23C22/33;H05K1/02 |
代理公司: | 烟台双联专利事务所(普通合伙) 37225 | 代理人: | 矫智兰 |
地址: | 265400 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种降低电解铜箔粗糙度的表面处理工艺,属于高精电解铜箔生产工艺技术领域。将表面粗糙度(Rz)为3-5μm的电解铜箔,经酸洗、微蚀、镀镍-锌合金、钝化、偶联剂、烘干等处理步骤后,形成了VLP铜箔,其表面粗糙度(Rz)下降到0.5-1.5μm。处理的铜箔表面呈红褐色,具有良好的耐腐蚀性和蚀刻性,具有优异的抗常温、高温氧化性能,适用于挠性覆铜板。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 电解 铜箔 粗糙 表面 处理 工艺 | ||
【主权项】:
一种降低电解铜箔粗糙度的表面处理工艺,特征在于其工艺流程为:LP毛箔—酸洗—微蚀—镀镍‑锌合金—钝化—硅烷偶联剂—烘干—VLP铜箔。
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