[发明专利]化合物薄膜太阳能电池的制作方法及制作的太阳能电池无效
申请号: | 201210060125.4 | 申请日: | 2012-03-09 |
公开(公告)号: | CN103137784A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 朱容贤;赖明旺;洪东亿 | 申请(专利权)人: | 硕禾电子材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 何为;袁颖华 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种化合物薄膜太阳能电池的制作方法及制作的太阳能电池,是于真空腔体内在高温下以溅镀方式配合持续通入的硒蒸气进行吸收材料层制作,而其双渐层制作过程的控制条件包括有三阶段,第一阶段是于正规化功率0.35W±10%与0.5W±10%时分别导入铟及铜镓,而铟与铜镓的掺杂浓度比例为3.5:5;第二阶段是于正规化功率0.1W±10%、0.2W±10%与0.75W±10%时分别导入铜镓、铜及铟,而该铜镓、铜与铟的掺杂浓度比例为1:2:7.5;第三阶段是于正规化功率0.35W±10%与0.5W±10%时分别导入铟及铜镓,而该铟与铜镓的掺杂浓度比例为3.5:5;另于单层制程中省略该第二阶段。藉此,可使本发明达到制作过程快速、无毒、良率佳以及可制成较大面积的功效。 | ||
搜索关键词: | 化合物 薄膜 太阳能电池 制作方法 制作 | ||
【主权项】:
一种化合物薄膜太阳能电池的制作方法,该太阳能电池的制作包括双渐层结构的吸收材料层的制作,其特征在于:所述吸收材料层是在真空腔体内于500‑600℃以溅镀方式配合持续通入的硒蒸气进行制作,该吸收材料层的双渐层的制作过程包括如下三阶段:第一阶段是于正规化功率0.35W±10%时导入铟,而于正规化功率0.5W±10%导入铜镓,且该铟与铜镓的掺杂浓度比例为3.5:5;第二阶段是于正规化功率0.1W±10%时导入铜镓,而于正规化功率0.2W±10%时导入铜,并于正规化功率0.75W±10%时导入铟,且该铜镓、铜与铟的掺杂浓度比例为1:2:7.5;以及第三阶段是于正规化功率0.35W±10%时导入铟,而于正规化功率0.5W±10%时导入铜镓,且该铟与铜镓的掺杂浓度比例为3.5:5。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的