[发明专利]一种常压多腔原子层沉积设备

摘要

一种常压多腔原子层沉积设备，其目的是要解决现有技术成膜过程耗时长、产量低、设备结构复杂及制造成本高的技术难题。它包括冷却系统和存片装置。每个前躯体拥有一个独立的反应腔，在其中至少一个反应腔中设有能量来源装置，各反应腔之间用惰性气体分隔开。上述存片装置、冷却系统及反应腔与传送装置相接并相通，其中冷却系统可根据实际需要进行选择性安装，该设备可以拥有多个反应腔、多个传送装置，根据反应需要以能够生成一层原子层厚度薄膜的腔体为一套腔体，成倍的进行加载。本发明采用长方形腔体结构和圆环形的腔体结构。可广泛用于金属、玻璃、硅片、塑料及模板等基体材料的薄膜涂层领域。

主权项

一种常压多腔原子层沉积设备，包括冷却系统和存片装置，其特征在于：每个前躯体拥有一个独立的反应腔，在其中至少一个反应腔中设有能量来源装置，各反应腔之间用惰性气体分隔开，惰性气体可以是同一种气体，也可以是不同种气体，上述存片装置、冷却冷却系统及反应腔与传送装置相接并相通，其中冷却系统可根据实际需要进行选择性安装，该设备可以拥有多个反应腔、多个传送装置，根据反应需要以能够生成一层原子层厚度薄膜的腔体为一套腔体，成倍的进行加载，各套腔体可采用串联或并联的方式进行排列。