[发明专利]一种常压多腔原子层沉积设备

权利要求书

1.一种常压多腔原子层沉积设备，包括冷却系统和存片装置，其特征在于：每个前躯体拥有一个独立的反应腔，在其中至少一个反应腔中设有能量来源装置，各反应腔之间用惰性气体分隔开，惰性气体可以是同一种气体，也可以是不同种气体，上述存片装置、冷却冷却系统及反应腔与传送装置相接并相通，其中冷却系统可根据实际需要进行选择性安装，该设备可以拥有多个反应腔、多个传送装置，根据反应需要以能够生成一层原子层厚度薄膜的腔体为一套腔体，成倍的进行加载，各套腔体可采用串联或并联的方式进行排列。

2.如权利要求1所述的一种常压多腔原子层沉积设备，其特征在于：所述的设备采用长方形腔体结构和圆环形的腔体结构。

3.如权利要求1所述的一种常压多腔原子层沉积设备，其特征在于：该设备是一个长方形腔体结构，它包括冷却系统、存片装置，其中冷却系统可根据实际需要进行选择性安装，传送装置上分别设有反应腔A、反应腔B和反应腔C，上述反应腔A和反应腔B中分设前躯体A和前躯体B；上述反应腔C内设有能量来源装置A；上述反应腔A与存片装置间设有惰性气体气墙A、反应腔A与反应腔B间设有惰性气体气墙B及反应腔B与反应腔C间设有惰性气体气墙C，上述各反应腔之间由惰性气体作为腔壁隔离开，每个腔体都保持常压状态。

4.如权利要求1所述的一种常压多腔原子层沉积设备，其特征在于：该设备是一个圆环形的腔体结构，它包括冷却系统、存片装置，其中冷却系统可根据实际需要进行选择性安装，环绕传送装置分别设有反应腔A、反应腔B、反应腔C、反应腔D、反应腔E及反应腔F，上述反应腔A、反应腔B、反应腔D及反应腔E中分设前躯体A、前躯体B、前躯体C及前躯体D；上述反应腔C内设有能量来源装置A、反应腔F内设有能量来源装置B；上述反应腔A与存片装置间设有惰性气体气墙A、反应腔A与反应腔B间设有惰性气体气墙B、反应腔B与反应腔C间设有惰性气体气墙C、反应腔C与反应腔D间设有惰性气体气墙D、反应腔D与反应腔E间设有惰性气体气墙E及反应腔E与反应腔F间设有惰性气体气墙F，上述各反应腔之间由惰性气体作为腔壁隔离开，每个腔体都保持常压状态。