[发明专利]光刻设备和平台系统有效
| 申请号： | 201210033005.5 | 申请日： | 2012-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN102707573A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | J-G·C·范德图恩;马塞尔·K·M·博根;S·G·克罗伊斯威克;J·P·斯特瑞弗德;马克·康斯坦丁·约翰内斯·拜根;M·J·沃奥尔戴尔冬克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和平台系统。所述平台系统包括：物体台，构造成保持物体；短行程致动器元件，构造成在第一移动范围上对所述物体台移位；和长行程致动器元件，构造成在第二移动范围上对所述短行程致动器元件移位，所述第二移动范围大于所述第一移动范围。平台系统还包括气动补偿装置，气动补偿装置包括：传感器，布置成测量表示在所述短行程致动器元件上的气动扰动力的量；致动器，布置成提供补偿力，以至少部分地补偿所述气动扰动；和控制器。传感器连接至控制器的控制器输入，致动器连接至控制器的控制器输出，控制器布置成响应于从传感器接收的信号来驱动致动器。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 平台 系统 | ||
【主权项】：
一种平台系统，包括：物体台，构造成保持物体；短行程致动器元件，构造成在第一移动范围上对所述物体台移位；长行程致动器元件，构造成在第二移动范围上对所述短行程致动器元件移位，所述第二移动范围大于所述第一移动范围，和气动补偿装置，包括：传感器，布置成测量表示所述平台系统的元件上的气动扰动力的量，致动器，布置成提供补偿力，以至少部分地补偿所述气动扰动，和控制器，布置成响应于从传感器接收的信号来驱动所述致动器，其中所述传感器连接至所述控制器的控制器输入，所述致动器连接至所述控制器的控制器输出。
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