[发明专利]一种镀膜方法及镀膜设备无效
| 申请号： | 201210011583.9 | 申请日： | 2012-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN102517545A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 李建;任思雨;于春崎;胡君文;谢凡;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利半导体有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/58;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 516600 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种镀膜方法和镀膜设备。一种镀膜方法，包括：清洗彩色滤光片；在所述彩色滤光片的背面进行低温镀膜，使所述彩色滤光片背面镀有一层纳米铟锡金属氧化物ITO膜；对所述ITO膜进行高温退火。在本实施例中，在进行清洗后的彩色滤光片的背面进行低温镀膜，并对彩色滤光片的背面镀上的ITO膜进行高温退火。由于低温镀膜和高温退火可以避免了彩色滤光片破裂，从而增加产品合格率。同时，低温镀膜无需采用专有高温加热腔室对彩色滤光片加热，设备结构简化，价格降低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种镀膜方法，其特征在于，包括：清洗彩色滤光片；在所述彩色滤光片的背面进行低温镀膜，使所述彩色滤光片背面镀有一层纳米铟锡金属氧化物ITO膜；对所述ITO膜进行高温退火。
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