[发明专利]一种混合集成的声表面波器件结构无效
申请号: | 201210001653.2 | 申请日: | 2012-01-05 |
公开(公告)号: | CN102437832A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 刘卫国;刘欢;蔡长龙;高爱华;程进 | 申请(专利权)人: | 西安工业大学 |
主分类号: | H03H9/145 | 分类号: | H03H9/145 |
代理公司: | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人: | 黄秦芳 |
地址: | 710032*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种混合集成的声表面波器件结构,特别适用于高频、高机电耦合系数、高集成度的声表面波器件。现有技术声表面波器件的体积和重量较大,无法满足要求苛刻的武器装备。为了解决现有技术中的问题,本发明提供的一种混合集成的声表面波器件结构,是用压电晶体作为薄压电层,薄压电层的厚度为10-80um,在压电晶体上表面设置叉指换能器,叉指换能器简称IDT;然后在IDT上设置类金刚石薄膜表层,类金刚石薄膜厚度为1-10um;在厚硅的一个表面上设置集成电路层;最后通过低温键合技术将压电晶体的下表面与厚硅上表面进行键合。本发明降低了器件的体积同时也降低了器件的重量。 | ||
搜索关键词: | 一种 混合 集成 表面波 器件 结构 | ||
【主权项】:
一种混合集成的声表面波器件结构,其特征在于:是用压电晶体作为薄压电层(103),薄压电层(103)的厚度为10‑80 um,在压电晶体上表面设置叉指换能器,叉指换能器简称IDT(102);然后在IDT(102)上设置类金刚石薄膜(101)表层,类金刚石薄膜(101)厚度为1‑10um;在厚硅(105)的一个表面上设置集成电路层(104);最后通过低温键合技术将压电晶体的下表面与厚硅(105)上表面进行键合。
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