[发明专利]一种应用于等离子处理装置的气体分布系统及验证方法

摘要

本发明提供了一种用于等离子体反应室的气体分布系统及其验证方法，其中，本发明在至少两个气体通道之一上添加了一个旁路通道后就可以通过测量反应腔气压，换算出未被旁路的气体通道的实际流量，将实际测得值与分流后的理论测定值比较就可以判断出气体分流调节器的工作情况。其中测试值可以是在同一路通道上多次测量来获得高精度数据，也可以是在对一条通道进行测量后再对气体供应源的输出气流或者另一条气体通道进行再次测量，将再次测量值与第一次测量值进行比较来抵消如温度等变量造成的影响。

主权项

一种应用于等离子处理装置的气体分布系统，所述等离子处理器包括一个反应腔和气体分布器，所述气体分布器包括至少两个独立的气体分布区向反应腔不同区域供应处理气体，一个抽气装置与反应腔相联通，排出反应腔中的处理气体；一个气体供应源供应可控流量的处理气体；一个气体分流器通过联通到所述气体供应源的供气通道接收处理气体；所述气体分流器分流所述处理气体并通过第一和第二气体通道供应到所述气体分布器的两个独立气体分布区；其特征在于所述第一气体通道还包括一个第一开关阀门连通到所述反应腔，以及一个旁路通道通过第一旁路开关阀门连通到所述抽气装置。