[发明专利]镀膜件及其制造方法无效
申请号: | 201110287749.5 | 申请日: | 2011-09-26 |
公开(公告)号: | CN103009705A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 陈正士;李聪 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | B32B15/04 | 分类号: | B32B15/04;C23C28/00;C23C14/14;C23C14/08;C25D11/02;C23C14/35 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种镀膜件,包括基体、依次形成于基体上阳极氧化膜、结合层及真空镀膜层,所述结合层为钛层或铬层,所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。该镀膜件呈现出高光泽的阳极氧化处理的外观,且所述结合层的形成可提高所述真空镀膜层与阳极氧化膜之间的结合力,进而避免所述阳极氧化膜与真空镀膜层直接结合而导致真空镀膜层发生开裂、剥落等现象。本发明还提供了所述镀膜件的制造方法。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种镀膜件,包括基体及形成于基体表面的阳极氧化膜,其特征在于:所述镀膜件还包括依次形成于该阳极氧化膜表面的结合层及真空镀膜层,所述结合层为钛层或铬层,所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。
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