[发明专利]曝光装置及光源装置有效

专利信息
申请号: 201110281454.7 申请日: 2011-09-14
公开(公告)号: CN102402130A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 小久保正彦;城田浩行 申请(专利权)人: 大日本网屏制造株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/09;G02B27/10
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 宋晓宝;郭晓东
地址: 日本国京*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明能够得到一种消耗功率少且寿命长,并且能够以需要的光量高效率地出射需要的波长区域的光并进行曝光的光源装置和曝光装置。光源单元(41)具有:第一LED阵列(411)、第一透镜阵列(412)、第二LED阵列(413)、第二透镜阵列(414)、分色镜(415)、第三透镜阵列(416)、第一成像光学系统(417)。第一LED阵列(411)出射中心波长385nm的光。第二LED阵列(413)出射中心波长365nm的光。分色镜(415)在第一LED阵列(411)的发光部(411c)的像上重叠第二LED阵列(413)的发光部(413c)的像来进行合成。
搜索关键词: 曝光 装置 光源
【主权项】:
一种光源装置,其特征在于,具有:第一光源阵列,排列有多个光源元件,该光源元件具有出射第一波长特性的光的发光部;第一透镜阵列,排列有多个透镜,该透镜形成上述第一光源阵列的各光源元件的发光部的放大像;第二光源阵列,排列有多个光源元件,该光源元件具有出射第二波长特性的光的发光部;第二透镜阵列,排列有多个透镜,该透镜形成上述第二光源阵列的各光源元件的发光部的放大像;光学合成元件,使上述第一透镜阵列所形成的上述第一光源阵列的发光部的像和上述第二透镜阵列所形成的上述第二光源阵列的发光部的像相重叠,从而形成合成像;以及均匀化元件,使上述光学合成元件所合成的合成像的光束变为具有均匀照度分布的光束来出射。
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