[发明专利]光刻机的光路系统有效
| 申请号： | 201110259903.8 | 申请日： | 2011-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN102314094A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 袁伟 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H02N6/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明的光刻机的光路系统包括激光器、遮光快门和光电效应模块，所述光电效应模块设置在所述遮光快门靠近激光器的表面上，当所述遮光快门处于关闭状态时，所述激光器发射的激光照射在所述光电效应模块的表面上。本发明的光刻机的光路系统中光电效应模块的安装和维护成本低，且为一次性投入，投入后可将大量闲置和浪费的激光光能持续不断地转化为电能，再回收利用这些电能，从而降低光刻机的总体能耗，降低光刻机总体运营成本，可为绿色环保和可持续发展做出有效贡献。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻机的光路系统，包括激光器和遮光快门，其特征在于，所述光刻机的光路系统还包括光电效应模块，所述光电效应模块设置在所述遮光快门靠近激光器的表面上，当所述遮光快门处于关闭状态时，所述激光器发射的激光照射在所述光电效应模块的表面上。
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