[发明专利]一种光刻机NA-Sigma配置的优化方法有效

专利信息
申请号: 201110231966.2 申请日: 2011-08-14
公开(公告)号: CN102289156A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 李艳秋;郭学佳 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 李爱英;杨志兵
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种光刻机NA-Sigma配置的优化方法;具体过程为:在事先设定两个优化方向选取具有最大光刻焦深的点;当所选取的点不满足条件时,计算新的优化方向,并获取新的优化方向上对应的最大光刻焦深的点,进一步判断所获取的点是否满足条件;当不满足时,对所选取的优化方向进行更新,直至获取的最大光刻焦深的点满足条件为止。采用本发明可以快速有效地优化得出最优的NA-Sigma配置,得到最大的光刻焦深,并有较高的精度。
搜索关键词: 一种 光刻 na sigma 配置 优化 方法
【主权项】:
1.一种光刻机NA-Sigma配置的优化方法,其特征在于,具体步骤为:步骤101、给定初始点NA和Sigma的值,设为(NA,σ)(1,0),确定两个初始线性无关的方向d(1,1)和d(1,2),设定搜索精度ε,令k=1;步骤102、从(NA,σ)(k,0)出发,沿方向d(k,1)进行搜索,得到在该方向上具有最大光刻焦深的点(NA,σ)(k,1),其中若该方向所有点对应的光刻焦深的值都相等时,则任选一点作为最大光刻焦深的点(NA,σ)(k,1);从(NA,σ)(k,1)出发,沿方向d(k,2)进行搜索,得到在该方向上具有最大光刻焦深的点(NA,σ)(k,2),其中若该方向所有点对应的光刻焦深的值都相等时,则任选一点作为最大光刻焦深的点(NA,σ)(k,2);步骤103、若||(NA,σ)(k,2)-(NA,σ)(k,0)||≤ε,则令(NA,σ)=(NA,σ)(k,2),进入步骤109,其中|| ||为取模运算;否则进入步骤104;步骤104、计算新的搜索方向d(k,3)=(NA,σ)(k,2)-(NA,σ)(k,0);从(NA,σ)(k,0)出发,沿方向d(k,3)进行搜索,得到在该方向上具有最大光刻焦深的点(NA,σ)(k,3);步骤105、若||(NA,σ)(k,3)-(NA,σ)(k,2)||≤ε,则令(NA,σ)=(NA,σ)(k,3),进入步骤109;否则进入步骤106;步骤106、当{f((NA,σ)(k,0))-f((NA,σ)(k,1))}≥{f((NA,σ)(k,1))-f((NA,σ)(k,2))}时,令m=1;当{f((NA,σ)(k,0))-f((NA,σ)(k,1))}<{f((NA,σ)(k,1))-f((NA,σ)(k,2))}时,令m=2;其中f((NA,σ)(p,q))表示点(NA,σ)(p,q)所对应的光刻焦深;步骤107、令λ=||(NA,σ)(k,3)-(NA,σ)(k,0)||||(NA,σ)(k,2)-(NA,σ)(k,0)||,]]>则进入步骤108;否则,从(NA,σ)(k,1)、(NA,σ)(k,2)以及(NA,σ)(k,3)中选取具有最大光刻焦深的点,令k加1,并将所选取的点作为初始点(NA,σ)(k,0),令此时搜索方向d(k,1)和d(k,2)为原搜索方向d(k-1,1)和d(k-1,2),返回步骤102;步骤108、替换搜索方向:当m=1时,此时令d(k+1,1)=d(k,2),d(k+1,2)=d(k,3);当m=2时,此时令d(k+1,1)=d(k,1),d(k+1,2)=d(k,3);令k加1,令此时初始点(NA,σ)(k,0)为原初始点(NA,σ)(k-1,0),并返回步骤102;步骤109、输出NA-Sigma的值(NA,σ)以及最佳光刻焦深f((NA,σ)),优化结束。
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