[发明专利]延长焦深的并行激光直写装置有效
| 申请号： | 201110187540.1 | 申请日： | 2011-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN102338989A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 周常河;余俊杰;贾伟;麻健勇;曹武刚;王少卿 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;B23K26/00;B23K26/06 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种延长焦深的并行激光直写装置，特点在于其构成包括：输出平面激光束的激光器，沿该平面激光束方向依次是1×N达曼光栅、第一透镜、振幅型空间滤波板、第二透镜、反射镜、孔径光阑、延长焦深相位延迟板、聚焦物镜、自聚焦伺服系统和二维移动平台。本发明装置可以显著提高激光直写装置的加工速率，可以明显降低对聚焦伺服系统的要求，进一步提高了激光直写速率和增大了激光直写的光刻面积。在低成本、高速大面积激光直写方面有重要的实用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 延长 焦深 并行 激光 装置 | ||
【主权项】：
一种延长焦深的并行激光直写装置，特征在于其构成包括：输出平面激光束(001)的激光器，沿该平面激光束(001)方向依次是1×N达曼光栅(100)、第一透镜(201)、振幅型空间滤波板(203)、第二透镜(202)、反射镜(300)、孔径光阑(400)、延长焦深相位延迟板(500)、聚焦物镜(600)、自聚焦伺服系统(700)和二维移动平台(800)，所述的振幅型空间滤波板(203)位于所述的第一透镜(201)和第二透镜(202)的共焦焦平面上，所述的反射镜(300)与所述的平面激光束(001)成45°，N为所述的达曼光栅(100)的最大的衍射级次，为2以上的正整数，所述的延长焦深位相延迟板(500)的位置是所述的达曼光栅(100)在共焦透镜组后方共轭距离处，并满足下列关系： v 1 + v 2 = f 2 + ( f 2 f 1 ) 2 ( f 1 - d ) 其中：f1，f2分别为第一透镜(201)和第二透镜(202)的焦距，d为所述的达曼光栅(100)与第一透镜(201)之间的距离，v1为第二透镜(202)到所述的反射镜(300)中点之间的距离，v2为所述的延长焦深位相延迟板(500)到所述的反射镜(300)中点之间的距离。
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