[发明专利]化学机械抛光系统无效
| 申请号： | 201110169985.7 | 申请日： | 2011-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN102773787A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 刘立中;陈逸男;刘献文 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B08B1/02;B08B3/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光系统，包含有一晶圆抛光单元，其产生一使用过的抛光液、一抛光液处理系统，用来接受并处理使用过的抛光液，藉以萃取出一碱液、以及一抛光后清洗单元，使用萃取出的碱液来清洗一经过抛光的晶圆表面。抛光后清洗单元包含有多个滚轴，用来支撑并转动一晶圆、一清洗刷，用来刷洗晶圆、以及一喷洒棒，设置在清洗刷附近，用来将萃取出的碱液喷洒至抛光过的晶圆表面。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 系统 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光系统，其特征在于，包含有：一晶圆抛光单元，其产生使用过的抛光液；一抛光液处理系统，用来接受并处理该使用过的抛光液，借以萃取出碱液；以及一抛光后清洗单元，使用该萃取出的碱液来清洗经过抛光的晶圆表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南亚科技股份有限公司，未经南亚科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110169985.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
