[发明专利]高含氟芳香-脂肪负性光刻胶及用于制备聚合物波导器件无效

专利信息
申请号: 201110166166.7 申请日: 2011-06-21
公开(公告)号: CN102323717A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 崔占臣;万莹;史作森;许文辉 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G02B6/138
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 张景林;刘喜生
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明属于聚合物光波导技术领域,具体涉及一种新型负性高含氟芳香-脂肪负性光刻胶组合物,按重量计,其由54.5~73wt%的高含氟芳香-脂肪环氧树脂、5.5~7.3wt%的光致产酸物和20~40wt%的有机溶剂组成,它可以通过改变光致产酸物的种类来调整光刻胶组合物的曝光波长。同时由于在氟化的环氧树脂中,大部分氢原子被氟原子取代,在通讯波段吸收较小,因此该光刻胶组合物可以在紫外波长200~400nm的范围内曝光并成像制作聚合物光波导器件。
搜索关键词: 高含氟 芳香 脂肪 光刻 用于 制备 聚合物 波导 器件
【主权项】:
1.一种高含氟芳香-脂肪负性光刻胶组合物,其特征在于:按重量计,由54.5~73wt%的高含氟芳香-脂肪环氧树脂、5.5~7.3wt%的光致产酸物和20~40wt%的有机溶剂组成,其中,高含氟芳香-脂肪环氧树脂为一种或几种结构式如(1)所示的化合物,Ar为RF为-CH2CF2CF2CF2CF2CH2-、-CH2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH2-、或-CH2CH2CH2CH2CH2-;m为5~20的整数,n为0~20的整数;光致产酸物为碘鎓盐或硫鎓盐。
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