[发明专利]以氧化钛为主要成分的薄膜和以氧化钛为主要成分的烧结体溅射靶有效
| 申请号： | 201080006865.9 | 申请日： | 2010-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN102325920A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 高见英生;矢作政隆 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C04B35/46;C23C14/34;G11B7/24;G11B7/254;G11B7/257 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种以氧化钛为主要成分的薄膜，其特征在于，含有钛、氧和铜，Ti为29.0原子％以上、34.0原子％以下，Cu为0.003原子％以上、7.7原子％以下，余量包含氧和不可避免的杂质，并且氧成分与金属成分之比O/(2Ti+0.5Cu)为0.96以上。本发明的课题在于，得到具有高折射率且具有低消光系数的以氧化钛为主要成分的薄膜、适于制造该薄膜的以氧化钛为主要成分的烧结体溅射靶；得到透射率优良、反射率的下降少、作为光信息记录介质的干涉膜或保护膜有用的薄膜；以及得到可以应用于玻璃基板，即可以作为热射线反射膜、防反射膜、干涉滤光片使用的薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 主要成分 薄膜 烧结 溅射 | ||
【主权项】：
一种以氧化钛为主要成分的薄膜，其特征在于，含有钛、氧和铜，Ti为29.0原子％以上、34.0原子％以下，Cu为0.003原子％以上、7.7原子％以下，余量包含氧和不可避免的杂质，并且氧成分与金属成分之比O/(2Ti+0.5Cu)为0.96以上。
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