[实用新型]芯片背面复合材料多层金属化结构有效

专利信息
申请号: 201020128627.2 申请日: 2010-03-04
公开(公告)号: CN201638808U 公开(公告)日: 2010-11-17
发明(设计)人: 王新潮;冯东明;叶新民;王文源;周晓明 申请(专利权)人: 江阴新顺微电子有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48
代理公司: 江阴市同盛专利事务所 32210 代理人: 唐纫兰
地址: 214431 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种芯片背面复合材料多层金属化结构,属集成电路或分立器件制造技术领域。所述结构自上至下依次由硅衬底层(1)、金-硅共溶层(2)、金接触层(3)、阻挡层(4)和金属保护层(5)共五层复合而成,所述阻挡层(4)材料为锡铜合金,金属保护层(5)材料为锡或铜或银或金。本实用新型的有益效果是:本实用新型利用金-硅共溶层合金效果降低芯片内部残余应力,整体金属化结构采用多层金属分布减少贵重材料消耗,利于大规模生产制造。
搜索关键词: 芯片 背面 复合材料 多层 金属化 结构
【主权项】:
一种芯片背面复合材料多层金属化结构,其特征在于所述结构自上至下依次由硅衬底层(1)、金-硅共溶层(2)、金接触层(3)、阻挡层(4)和金属保护层(5)共五层复合而成,所述阻挡层(4)材料为锡铜合金,金属保护层(5)材料为锡或铜或银或金。
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