[发明专利]等离子清洁装置有效
| 申请号： | 201010573196.5 | 申请日： | 2010-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN102486986A | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 何伟业 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;B08B7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种等离子清洁装置，包括：等离子腔室，设置于等离子腔室内用于承载待清洁工件的基座；等离子体发生器，用于产生等离子体；离子加速器，用于产生加速电场加速等离子体中的离子形成离子束；还包括设置于所述离子束路径上的过滤器，所述过滤器通过偏转场偏转离子束中离子的运动方向，过滤射向待清洁工件的离子，可以减小离子束中离子的通过量，进而精确控制离子轰击强度，从而避免过度的离子束轰击所造成的介质表面性质漂移或厚度损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 清洁 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子清洁装置，包括：等离子腔室，设置于等离子腔室内用于承载待清洁工件的基座；等离子体发生器，用于产生等离子体；离子加速器，用于产生加速电场加速等离子体中的离子形成离子束；其特征在于，还包括设置于所述离子束路径上的过滤器，所述过滤器通过偏转场偏转离子束中离子的运动方向，过滤射向待清洁工件的离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（北京）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010573196.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：高速列车防撞击防尾追安全装置
- 下一篇：注气井温度压力连续监测装置
