[发明专利]一种钨化学机械抛光方法有效
| 申请号： | 201010526490.0 | 申请日： | 2010-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN102452036A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 王晨;何华锋 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种钨化学机械抛光方法，包括下列步骤：(a)将一化学机械抛光液前体与一活性还原剂掺混，以制备化学机械抛光液；和(b)将所述化学机械抛光液用于钨的化学机械抛光；其中：所述活性还原剂可以显著提高氧化剂的活性和氧化效率。本发明的化学机械抛光液前体中同时存在两种或两种以上的氧化剂，在加入活性还原剂之后，可以使得失去活性的氧化剂恢复氧化活性并提高氧化效率，从而最终获得很高的抛光速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 方法 | ||
【主权项】：
一种钨化学机械抛光方法，包括下列步骤：(a)将一化学机械抛光液前体与一活性还原剂掺混，以制备化学机械抛光液；和(b)将所述化学机械抛光液用于钨的化学机械抛光；其中：所述活性还原剂可以显著提高氧化剂的活性和氧化效率。
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