[发明专利]一种真空填孔技术无效

专利信息
申请号: 201010281567.2 申请日: 2010-09-15
公开(公告)号: CN102403262A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 涂嘉晋;李应煌 申请(专利权)人: 涂嘉晋;李应煌
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 龚燮英
地址: 中国台湾台北县板桥市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种真空填孔技术,它涉及一种晶圆填孔技术。它的工艺流程为:1)将充满纳米金属液体,倒在晶圆表面,以晶圆旋转方式,使得纳米金属液体漫布在晶圆表面;2)在晶圆背面以覆盖一层滤网,利用真空方式将纳米金属液体经由贯孔吸出液体,而将纳米金属留在贯孔中;3)移除滤网,清除表面残留纳米金属;4)将整个晶圆,以真空将剩余液体升华,另一方面以高温,纳米金属则融化并固化。它无须以电镀方式进行加工,可依降低对环境的冲击,且投资成本大幅降低;挤压法无法处里的不连续见面和气孔,真空填孔技术可以轻易解决;真空填孔技术完全以物理特性方式进行加工,无化学反应中隐含的不稳定因素。
搜索关键词: 一种 真空 技术
【主权项】:
一种真空填孔技术,其特征在于它的工艺流程为:1)将充满纳米金属液体,倒在晶圆表面,以晶圆旋转方式,使得纳米金属液体漫布在晶圆表面;2)在晶圆背面以覆盖一层滤网,利用真空方式将纳米金属液体经由贯孔吸出液体,而将纳米金属留在贯孔中;3)移除滤网,清除表面残留纳米金属;4)将整个晶圆,以真空将剩余液体升华,另一方面以高温,纳米金属则融化并固化。
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