[发明专利]适合与外涂光致抗蚀剂涂层结合使用的涂层组合物有效
| 申请号： | 201010263243.6 | 申请日： | 2010-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN102029753B | 公开（公告）日： | 2017-06-16 |
| 发明（设计）人： | J·P·阿马拉;J·F·卡梅隆;成镇旭;G·P·普罗科普维茨 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一方面，提供了有机涂层组合物，特别是抗反射涂层组合物，其包括含有二烯/亲双烯体的反应产物。另一方面，提供了有机涂层组合物，特别是抗反射涂层组合物，其包括含有羟基‑萘酸基团、例如6‑羟基‑2‑萘酸基团的组分。本发明优选的组合物有助于减少曝光辐射时从基材反射进入其上的光致抗蚀剂涂层，和/或起到平坦化层、适形层或通孔‑填充层的作用。 | ||
| 搜索关键词： | 适合 外涂光致抗蚀剂 涂层 结合 使用 组合 | ||
【主权项】：
一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，所述方法包括：(a)在基材上涂敷组合物涂层，该组合物包括含有羟基‑萘酸基团的组分和(i)含酰亚胺化合物和(ii)多环芳基的反应产物；(b)在该组合物涂层上涂敷光致抗蚀剂层；以及(c)将涂敷的光致抗蚀剂层暴露于形成图案的辐射中，然后用水性碱显影剂组合物显影曝光的光致抗蚀剂层，其中所述显影剂选择性除去光致抗蚀剂层和下面的组合物涂层中的图像，所述图像是根据形成图案的辐射在光致抗蚀剂层中限定的，所述羟基‑萘酸基团包括下列结构：
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