[发明专利]一种信号归一化掩模对准系统有效

专利信息
申请号: 201010250440.4 申请日: 2010-08-11
公开(公告)号: CN102375351A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 李运锋 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种用于光刻设备的掩模对准系统,该对准系统包括照明模块、标记模块、投影模块、光强测量模块、位置测量模块、运动控制模块、能量探测模块、对准操作模块。本发明利用能量探测模块获得照明模块输出能量波动,并利用该能量数据对精对准时分支标记原始光强数据进行归一化,在消除照明模块输出能量波动的同时,避免了引入新的误差,提高了精对准的精度。
搜索关键词: 一种 信号 归一化 对准 系统
【主权项】:
一种用于光刻设备的对准系统,用于确定第一物件相对于第二物件的位置关系,该系统包括:照明模块,用于提供对准照明辐射;标记模块,包括透射式标记和参考标记;投影模块,用于对透射式标记进行成像;光强测量模块,用于采集透射式标记的像扫描过参考标记时透过的原始光强数据;位置测量模块包括掩模台测量子模块和工件台测量子模块,分别用于测量与采集掩模台位置数据和工件台位置数据;能量探测模块,用于探测和采集照明模块的能量数据;其特征在于,所述对准系统利用所述能量数据、原始光强数据、掩模台位置数据、工件台位置数据经处理后获得对准位置。
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