[发明专利]一种光刻系统中实时控制照明剂量的装置无效
| 申请号： | 201010177508.0 | 申请日： | 2010-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN102253602A | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | 张俊 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种实时控制照明剂量的装置，包括沿光轴依次设置的光源，照明系统，掩模台，物镜，工件台，其中在照明系统内部及工件台分别设置有第一和第二光能量传感器，对硅平面照明剂量进行实时反馈控制，其特征在于在第一和第二光能量传感器之间的光路中还具有一第三光能量传感器，在曝光的同时实时测量照明剂量。本发明的装置可以在曝光的同时实时测量第一和第二光能量传感器之间的光强，不影响产率，此外，该能量传感器在第一和第二光能量传感器之间，不受第一传感器和第三传感器之间光学器件透过率变化的影响，因此，不需要复杂的透过率预测模型，简单换算后测量结果就为硅平面的准确能量，通过该测量结果对曝光场之间进行剂量控制，从而改善了剂量准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 系统 实时 控制 照明 剂量 装置 | ||
【主权项】：
一种光刻系统中实时控制照明剂量的装置，包括沿光轴依次设置的光源，照明系统，掩模台，物镜，工件台，其中在照明系统内部设置一第一光能量传感器，实时测量光束能量；在工件台设置一第二光能量传感器，用来非曝光时候测量视场轮廓和剂量；其特征在于，在第一和第二光能量传感器之间的光路中还具有一第三光能量传感器，在曝光的同时实时测量照明剂量。
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