[发明专利]一种控制衰减器膜厚的方法

摘要

本发明属于真空镀膜这个技术领域，特别属于一种控制行波管衰减器的真空镀膜厚度的方法，在真空镀膜机镀膜室的隔板缝处同时放置衰减器和标准试样，所述标准试样与所述衰减器等长，底部设有氧化铍陶瓷底座和导电膜，所述导电膜通过导线与真空镀膜室外的万用表相连。本发明与现有技术相比，在真空镀衰减膜时，通过万用表显示标准试样的阻值变化和通过在真空镀膜室外转动挡板转盘，来精确移动挡板位置，隔断蒸发源的蒸发路径，在移动过程中被挡板挡住部分的膜厚比没有被挡住的地方薄，从而能控制不同位置的衰减膜厚变化程度，使加工出来的衰减膜达到所需的厚度，改善了衰减器渐变段的匹配性能。

主权项

一种控制衰减器膜厚的方法，其特征在于包括以下步骤：a.在真空镀膜机镀膜室的隔板缝处同时放置衰减器和标准试样，所述标准试样与所述衰减器等长，底部设有氧化铍陶瓷底座和导电膜，所述导电膜通过导线与真空镀膜室外的万用表相连；b.将真空镀膜机挡板的起始位置设在所述衰减器左侧21.5mm处，然后开始进行真空镀膜，当万用表显示阻值显示为1.05KΩ时，相应地控制所述挡板向右移动0.5mm距离；重复上述步骤，当万用表显示阻值分别显示为1.0、0.95、0.85、0.75、0.7、0.65、0.56、0.48、0.42、0.35、0.30、0.28、0.26、0.23、0.18、0.16、0.14、0.12、0.10、0.08、0.07、0.06、0.05、0.034KΩ时，所述万用表阻值每达到一个相应数值，就相应地控制所述挡板向右移动0.5mm距离，直至所述挡板移至距离所述衰减器左侧8.5mm的位置停止。