[发明专利]薄膜晶体管无效
申请号: | 200980161640.8 | 申请日: | 2009-09-30 |
公开(公告)号: | CN102549757A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 佐藤步;云见日出也;林享;渡边智大 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在氧化物半导体薄层晶体管中,为了实现阈值电压对于电应力的稳定性和抑制传输特性中阈值电压的变动,本发明提供薄膜晶体管,其包括氧化物半导体层和经设置以与该氧化物半导体层接触的栅极绝缘层,其中该氧化物半导体层含有氢原子并且包括至少两个作为该氧化物半导体的活性层发挥功能并且在层厚度方向上具有不同的平均氢浓度的区域;并且从栅极绝缘层侧开始将作为该氧化物半导体的活性层发挥功能的区域依次定义为第一区域和第二区域时,该第一区域的平均氢浓度低于该第二区域的平均氢浓度。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 | ||
【主权项】:
薄膜晶体管,包括氧化物半导体层和经设置以与该氧化物半导体层接触的栅极绝缘层,其中该氧化物半导体层含有氢原子并且包括至少两个作为该氧化物半导体的活性层发挥功能并且在层厚度方向上平均氢浓度不同的区域;并且从栅极绝缘层侧开始将作为该氧化物半导体的活性层发挥功能的区域依次定义为第一区域和第二区域时,该第一区域的平均氢浓度低于该第二区域的平均氢浓度。
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