[发明专利]含有含硅化合物的抗菌剂组成物及抗病毒剂组成物,以及抗菌化方法,清洗、漱口方法,抗菌剂及抗病毒剂固定化方法无效

专利信息
申请号: 200980157494.1 申请日: 2009-11-05
公开(公告)号: CN102333446A 公开(公告)日: 2012-01-25
发明(设计)人: 二川浩树;竹田宏纪;柿原俊雄;坂口刚正 申请(专利权)人: 国立大学法人广岛大学
主分类号: A01N55/00 分类号: A01N55/00;A01P3/00;A61K31/695;A61P31/12;C11D1/62;C11D1/75;C11D3/20
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本广岛县东*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种通过采用利用特定的制法来获得的含硅化合物,而不仅兼具高安全性与优异的抗菌性,抗菌成分更稳定,也可以对牙赋予抗菌性,并且也可以进行物品的清洗及漱口的抗菌剂组成物,以及兼具高安全性与优异的病毒失活能力的抗病毒剂组成物;并且提供使用这些组成物的抗菌方法,清洗、漱口方法,以及抗菌剂及抗病毒剂的固定化方法。本发明的抗菌剂组成物的特征在于:含有由下述通式(1)所表示的含硅化合物,该含硅化合物是通过使特定的三乙氧基硅烷基化合物在乙醇溶剂中反应而获得。
搜索关键词: 含有 化合物 抗菌剂 组成 抗病 毒剂 以及 抗菌 方法 清洗 漱口 固定
【主权项】:
1.一种抗菌剂组成物,其特征在于:含有含硅化合物,该含硅化合物是通过使下述通式(a)所表示的三乙氧基硅烷基化合物在乙醇溶剂中反应而获得:[化1]X-(CH2)3-Si-(OCH2CH3)3  (a)(式中,X表示卤素离子或者有机羰氧基离子(有机羧酸离子)),并且所述含硅化合物是由下述通式(1)所表示:[化2](式中,R1表示碳原子数12~24的烷基,R2及R3表示可相同或不同的碳原子数1~6的低级烷基,X表示卤素离子或者有机羰氧基离子(有机羧酸离子))。
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