[实用新型]一种磁控溅射镀膜机有效
| 申请号： | 200920104248.7 | 申请日： | 2009-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN201695080U | 公开（公告）日： | 2011-01-05 |
| 发明（设计）人： | 刘洪良;刘洪国;王树立;杨凯 | 申请（专利权）人： | 黄骅荣达玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C03C17/09;C03C17/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 06110*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种磁控溅射镀膜机，包括传输室、过渡室、溅射室和入\出口室，还包括设置在入/出口室和传输室的防窜气屏蔽系统，且所述传输室为四级夹缝式防窜气结构的四缓冲室，所述传输室、过渡室、溅射室和入\出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度设置为35mm。使得磁控溅射镀膜机不仅能生产平板玻璃还能生产弯弧玻璃，且能有效防止窜气，通过设置变频器，使得平板玻璃和弯弧玻璃设定不同传输速度，能够保证弯弧玻璃在传输时更加平稳。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射镀膜机，包括传输室、过渡室、溅射室和入\出口室，其特征在于，还包括设置在入/出口室和传输室的防窜气屏蔽系统，且所述传输室为四级夹缝式防窜气结构的四缓冲室，所述传输室、过渡室、溅射室和入\出口室的过片缝开口高度及防窜气屏蔽系统的高度设置为35mm。
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