[发明专利]像素结构、有机电激发光显示单元及其制造方法

摘要

本发明是关于一种像素结构、有机电激发光显示单元及其制造方法，所述的像素结构配置于基板上，且所述像素结构包括栅极、栅绝缘层、图案化金属氧化物层、刻蚀终止层、源极以及漏极。栅极配置于基板上，栅绝缘层配置于基板上以覆盖栅极，图案化金属氧化物层配置于栅绝缘层上，且图案化金属氧化物层包括位于栅极上方的主动层以及像素电极，刻蚀终止层配置于主动层的部分区域上，源极以及漏极与未被刻蚀终止层覆盖的部分主动层电连接，且漏极与像素电极电连接。其中未被刻蚀终止层覆盖的部分图案化金属氧化物层的导电度高于被刻蚀终止层覆盖的部分图案化金属氧化物层的导电度。

主权项

1.一种像素结构，配置于一基板上，其特征在于，所述像素结构包括：一栅极，配置于所述的基板上；一栅绝缘层，配置于所述的基板上以覆盖所述的栅极；一图案化金属氧化物层，配置于所述的栅绝缘层上，其中所述的图案化金属氧化物层包括一位于所述的栅极上方的主动层以及一像素电极；一刻蚀终止层，配置于所述的主动层的部分区域上，其中未被所述的刻蚀终止层覆盖的部分所述的图案化金属氧化物层的导电度高于被所述的刻蚀终止层覆盖的部分所述的图案化金属氧化物层的导电度；一源极；以及一漏极，其中所述的源极以及所述的漏极与未被所述的刻蚀终止层覆盖的部分所述的主动层电连接，且所述的漏极与所述的像素电极电连接。