[发明专利]用于平坦化金属层的研磨组成物有效
| 申请号： | 200910147773.1 | 申请日： | 2009-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN101928520A | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | 张松源;何明彻;陆明辉 | 申请（专利权）人： | 盟智科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 | 代理人： | 周春发;艾晶 |
| 地址： | 中国台湾桃*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明用于平坦化金属层的研磨组成物，研磨组成物至少包含有重量计约750ppm至低于5000ppm的磨粒、过氧化氢、加速剂、共同腐蚀抑制剂以及水，其中，该共同腐蚀抑制剂包含有第一、第二腐蚀抑制剂，该共同腐蚀抑制剂应用于平坦化金属层中，可以在维持金属层的高研磨去除率的同时，兼具抑制金属蚀刻的特性，能够减少碟陷与磨蚀等研磨缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 平坦 金属 研磨 组成 | ||
【主权项】：
一种用于平坦化金属层的研磨组成物，该研磨组成物至少包含有：磨粒，该磨粒的重量计750ppm至低于5000ppm；过氧化氢；加速剂；共同腐蚀抑制剂，该共同腐蚀抑制剂包含有第一、第二腐蚀抑制剂；以及水。
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