[发明专利]用于平坦化金属层的研磨组成物

权利要求书

1.一种用于平坦化金属层的研磨组成物，该研磨组成物至少包含有：

磨粒，该磨粒的重量计750ppm至低于5000ppm；

过氧化氢；

加速剂；

共同腐蚀抑制剂，该共同腐蚀抑制剂包含有第一、第二腐蚀抑制剂；以及

水。

2.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该磨粒的重量为1000ppm至低于3000ppm。

3.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该磨粒的粒径小于90nm。

4.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该磨粒的粒径小于50nm。

5.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该磨粒选自锻烧的二氧化硅；自硅酸钠或硅酸钾水解、或硅烷水解及缩合而成的二氧化硅溶胶；沉淀或锻烧的二氧化铝；沉淀或锻烧的二氧化钛；高分子材料；金属氧化物及高分子材料混合体所组成的组群。

6.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该磨粒为二氧化硅溶胶。

7.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该过氧化氢占组成物总重的0.25至5重量％。

8.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该加速剂选自柠檬酸、草酸、酒石酸、组胺酸、丙胺酸、甘胺酸以及其铵盐、钠盐、钾盐或锂盐所构成的组群。

9.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该加速剂占组成物总重的0.01至5重量％。

10.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该第一腐蚀抑制剂选自1-H-苯并三唑、N-醯基肌胺酸、烷基硫酸盐或烷基磺酸盐。

11.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该第二腐蚀抑制剂选自1，2，3-三唑、1，2，4-三唑、甲苯三唑、5-胺基四唑、3-胺基-1，2，4-三唑、4-胺基-4H-1，2，4，-三唑、3-硝基-1，2，4-三唑、3-巯基-1，2，4-三唑、1H-1，2，3-三唑-1-乙醇、苯并咪唑、咪唑、吡咯、吡咯啉、恶唑、异恶唑、吲唑或吲嗪。

12.如权利要求1所述用于平坦化金属层的研磨组成物，其中该共同腐蚀抑制剂占组成物总重的0.001至1重量％。