[发明专利]一种厚膜光刻胶清洗剂无效
| 申请号： | 200810202490.8 | 申请日： | 2008-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN101738880A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 史永涛;彭洪修;曹惠英 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种厚膜光刻胶清洗剂，其包含二甲基亚砜、氢氧化钾、醇胺、烷基二醇芳基醚和聚丙烯酸类缓蚀剂，其中烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子数目为3～18。本发明的厚膜光刻胶清洗剂可以除去金属、金属合金或电介质等基材上的厚膜光刻胶，尤其是100μm以上厚度的厚膜光刻胶，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料具有很低的腐蚀性，使其对晶片图案和基材表现出很低的腐蚀性，环境友好且可在较宽的温度范围内使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 洗剂 | ||
【主权项】：
一种厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：其包含二甲基亚砜、氢氧化钾、醇胺、烷基二醇芳基醚和聚丙烯酸类缓蚀剂，其中烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子数目为3～18。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子(上海)有限公司，未经安集微电子(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810202490.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种夜间无公害除虫灯
- 下一篇：一种钓鱼用饵盒炮台
