[发明专利]制造磁盘单元的方法无效
| 申请号： | 200810182003.6 | 申请日： | 2008-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN101447191A | 公开（公告）日： | 2009-06-03 |
| 发明（设计）人： | 赤城协;石渡谦介;河野敬;武市淳;黑木贤二;祝迫俊彦 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/596 | 分类号： | G11B5/596;G11B33/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张 波 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种制造磁盘单元的方法，该方法允许容易且有效地引入低密度气体到机壳中。磁盘单元的机壳具有气体入口和气体出口，其每个设置有过滤器。当机壳被填充以氦时，提供到气体入口的氦的质量流速被检测且根据这样检测的氦的质量流速控制提供到气体入口的氦的质量流速。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 磁盘 单元 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种制造磁盘单元的方法，该磁盘单元包括容纳于气密密封的机壳中的存储数据的磁盘、写和读取所述数据的磁头、以及相对于所述磁盘移动所述磁头的致动器，所述机壳具有用于其内外之间连通的气体入口和气体出口，所述气体入口和气体出口具有附着到其上的各自的过滤器，其中所述方法包括通过检测提供到所述气体入口的具有比空气低的密度的低密度气体的质量流速且根据这样检测的流速控制提供到所述气体入口的所述低密度气体的质量流速，经所述气体入口用所述低密度气体填充所述机壳的步骤。
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