[发明专利]灰阶掩模的缺陷检查方法及装置及其制造方法、光掩模的缺陷检查方法、图案转印方法

摘要

提供一种灰阶掩模的缺陷检查方法，能够正确判定具有形成了在掩模使用时的曝光条件下的析像限度以下的细微图案的区域的灰阶掩模的半透光部有无缺陷，能够提高缺陷检查的可靠性。灰阶掩模具有遮光部、透光部和半透光部，灰阶掩模的半透光部具有形成了在灰阶掩模使用时曝光的曝光条件下的析像限度以下的细微遮光图案的区域，其中具有：扫描半透光部得到透过率信号的工序；及将透过率信号与预先设定的半透光部的透过率许可值进行比较，判定半透光部有无缺陷的判定工序。在得到透过率信号的工序中，利用规定的光源照射半透光部，利用拍摄装置拍摄在透过半透光部的透过光束的作用下从正聚焦位置以规定量散焦后的图像，从该拍摄图像得到透过率信号。

主权项

1. 一种灰阶掩模的缺陷检查方法，所述灰阶掩模具有遮光部、透过部以及半透光部，所述半透光部是调整透过量的区域，且以降低透过该区域的光的透过量来选择性改变被转印体上的光致抗蚀剂的膜厚为目的，所述灰阶掩模的所述半透光部具有形成了在灰阶掩模使用时曝光的曝光条件下的析像限度以下的细微遮光图案的区域，所述灰阶掩模的缺陷检查方法的特征在于：具有：扫描所述半透光部，得到透过率信号的工序；以及将所述透过率信号与预先设定的半透光部的透过率许可值进行比较，判定所述半透光部有无缺陷的判定工序，在得到所述透过率信号的工序中，利用规定的光源照射所述半透光部，利用拍摄装置拍摄在透过了所述半透光部的透过光束的作用下从正聚焦位置以规定量散焦后的图像，从该拍摄图像得到透过率信号。