[发明专利]一种光刻机杂散光的自动测量方法有效
| 申请号： | 200810032843.4 | 申请日： | 2008-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN101221369A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 李术新 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻机杂散光的自动测量方法，包括如下步骤：将多个镜像焦面检测对准标记曝光到硅片上；对部分已曝光的所述标记引入设定剂量的杂散光；对其他的所述标记引入待测剂量的杂散光；硅片显影后，利用对准系统读取所述标记的对准位置；标定杂散光与对准位置的对应关系；计算待测光刻机系统的杂散光。本发明不但能缩短对杂散光的测试时间，而且也减小测试误差。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 散光 自动 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机杂散光的自动测量系统，其特征在于，包括，光源，用于产生投影光束；照明系统，用于调整所述光源发出光束的光强分布和部分相干因子；掩模，位于掩模台上，用于将所述照明系统射出的光线进行选择后选择一部分透出；成像光学系统，用于将所述掩模透出的光线曝光成像在硅片上；对准系统，用于获取对准标记的位置；工件台，用于承载所述硅片；激光干涉仪，用于实现工件台的精确定位。
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