[发明专利]杂环桥联联苯及其在场致发光装置中的应用有效

专利信息
申请号: 200780034161.0 申请日: 2007-09-04
公开(公告)号: CN101516856A 公开(公告)日: 2009-08-26
发明(设计)人: F·温德博恩;B·施米德哈尔特;T·沙弗;P·穆勒;K·巴登 申请(专利权)人: 西巴控股有限公司
主分类号: C07D235/18 分类号: C07D235/18;C07D241/42;C07D263/56;C07D209/58;C07D403/14;C07F7/10;C07F9/53;H01L51/30;C07D413/14
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吕彩霞;韦欣华
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及场致发光装置,其包含式(I)的化合物,尤其是作为磷光化合物的主体。该主体可以与磷光材料一起作用来为场致发光装置提供提高的效率、稳定性、制造性或者光谱特性。
搜索关键词: 杂环桥联 联苯 及其 在场 发光 装置 中的 应用
【主权项】:
1.一种场致发光(EL)装置,其包含式尤其是或者是的化合物,其中A是5-、6-或者7-元杂芳环,其含有至少一个选自氮、氧和硫的杂原子,尤其是一个氮原子和至少一个选自氮、取代的氮、氧和硫的另外的杂原子,Z1-NA1A1′、-P(=O)A4A4′或者-SiA6A7A8,Z2-NA2A2′、-P(=O)A5A5′或者-SiA6′A7′A8′,Ar和Ar′彼此独立的是C6-C14芳基,例如苯基或者萘基,其可以任选的用选自下面的一个或多个基团进行取代:可以任选地用-O-中断的C1-C25烷基,或者C1-C25烷氧基,R1、R2、R3、R4、R5和R6彼此独立的是氢、卤素或者有机取代基,或者R1、R2、R3、R4、R5和R6彼此独立的是氢、卤素或者有机取代基,或者彼此相邻的R1和R2、R4和R6、R2和R3、R5和R3和/或R5和R6一起形成芳族环或者杂芳环或者环体系,其可以任选被取代,R7是一种有机取代基,其中在同一分子中的两个或者多个取代基R7可以具有不同的含义,或者可以一起形成芳族环或者杂芳环或者环体系,和x是0或者是1-5的整数;A1、A2、A1′和A2′彼此独立的是C6-C24芳基基团,C2-C30杂芳基基团,其可以是任选取代的,或者是基团其中BU是桥联单元,例如或者A3和A3′彼此独立的是C6-C24芳基基团,或者C2-C30杂芳基基团,其可以是任选的取代的,或者A1和A1′或者A2和A2′或者A3和A3′与它们键合到其上的氮原子一起形成杂芳环或者环体系,例如m′是0、1或者2;A4、A4′、A6、A7、A8、A5、A5′、A6′、A7′和A8′彼此独立的是C6-C24芳基基团,或者C2-C30杂芳基基团,其可以是任选取代的,R41在每次出现之处可以相同或者不同,并且是Cl,F,CN,NR45R45′,C1-C25烷基基团,C4-C18环烷基基团,C1-C25烷氧基基团,在其中一个或多个彼此不相邻的碳原子可以用-NR45-,-O-,-S-,-C(=O)-O-或者-O-C(=O)-O-替代,和/或其中一个或多个氢原子可以用F替代,C6-C24芳基基团,或者C6-C24芳氧基基团,其中一个或多个碳原子可以用O、S或者N替代,和/或其可以用一个或多个非芳族的基团R41取代,或者两个或多个基团R41形成环体系;R45和R45′彼此独立的是H,C1-C25烷基基团,C4-C18环烷基基团,在其中一个或多个彼此不相邻的碳原子可以用-NR45″-,-O-,-S-,-C(=O)-O-,或者-O-C(=O)-O-替代,和/或其中一个或多个氢原子可以用F替代,C6-C24芳基基团,或者C6-C24芳氧基基团,其中一个或多个碳原子可以用O、S或者N替代,和/或其可以用一个或多个非芳族的基团R41取代,和R45″是H、C1-C25烷基基团或者C4-C18环烷基基团,m在每次出现之处可以相同或者不同,并且是0、1、2或者3,尤其是0、1或2,非常特别的是0或者1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西巴控股有限公司,未经西巴控股有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780034161.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top