[发明专利]化学除污装置以及化学除污方法有效
| 申请号： | 200780005072.3 | 申请日： | 2007-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN101385093A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 远田正见;市川长佳;金田雅之;金崎健;古井敏浩;矢板由美;稻见一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G21F9/28 | 分类号： | G21F9/28;B08B3/04;G21C19/02;G21C19/307;G21D1/00;G21D3/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 程大军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的一种化学除污装置，通过使用臭氧水化学溶解除污对象表面上形成或粘附的含放射性物质的氧化物膜来进行所述除污。该化学除污装置包括用于产生臭氧气体的臭氧发生单元，用于将产生的臭氧气体供给到水中的臭氧供给单元的臭氧供给设备，以及位于臭氧供给单元内的烧结金属元件37，而且臭氧气体由臭氧供给设备供给至该金属元件。使从臭氧供给设备供给到烧结金属元件内部的臭氧气体流出所述元件而进入水中，以便生成臭氧水。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种化学除污装置，其用于在臭氧水中化学溶解除污对象表面上形成或粘附的含放射性物质的氧化物膜，以进行除污，该装置包括：用于产生臭氧气体的臭氧发生单元；用于将所产生的臭氧气体供给到水中的臭氧供给单元的臭氧供给设备；以及位于所述臭氧供给单元内的烧结金属元件，臭氧供给设备将臭氧气体供给至该烧结金属元件，其中使从臭氧供给设备供给到烧结金属元件内的臭氧气体流出所述元件而进入水中，以生成臭氧水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝，未经株式会社东芝许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780005072.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于绿化的自动浮槽装置
- 下一篇：彩灯、照明控制开关
