[实用新型]光刻机投影物镜彗差原位检测系统无效

专利信息
申请号: 200720073973.3 申请日: 2007-08-22
公开(公告)号: CN201083963Y 公开(公告)日: 2008-07-09
发明(设计)人: 袁琼雁;王向朝 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光刻机投影物镜彗差原位检测系统,包括光源、照明系统、测试掩模、掩模台、投影物镜、工件台、安装在所述工件台上的像传感装置数据采集卡以及计算机。所述像传感装置包括孔径光阑、成像物镜、光电探测器。所述测试掩模由两个互相垂直的线宽较小的移相光栅标记和两个互相垂直的线宽较大的二元光栅标记组成。本实用新型的优点是可以消除畸变对成像位置偏移量的影响,可提高彗差检测精度。
搜索关键词: 光刻 投影 物镜 原位 检测 系统
【主权项】:
1.一种光刻机投影物镜彗差原位检测系统,包括光源(1),在该光源(1)的输出光束上同光轴地依次是照明系统(2)、测试掩模(3)、承载测试掩模(3)的掩模台(4)、投影物镜(5)、工件台(6)及安装在该工件台(6)上的像传感装置(7),该像传感装置(7)通过数据采集卡(8)和计算机(9)相连,其特征在于所述的测试掩模(3)由两个互相垂直的线宽较小的x方向彗差测量标记(31)、y方向彗差测量标记(33)、和两个互相垂直线宽较大的x方向彗差参考标记(32)和y方向彗差参考标记(34)构成,所述的x方向彗差测量标记(31)和y方向彗差测量标记(33)是移相光栅标记,所述的x方向彗差参考标记(32)和y方向彗差参考标记(34)是二元光栅标记,所述像传感装置(7)包括孔径光阑(71)、成像物镜(72)和光电探测器(73),所述的光电探测器(73)通过数据采集卡(8)和计算机(9)相连。
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