[发明专利]一种具有密排尖端阳极的溅射设备有效
| 申请号： | 200710304555.5 | 申请日： | 2007-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101469407A | 公开（公告）日： | 2009-07-01 |
| 发明（设计）人： | 李弢;古宏伟;王霈文 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程凤儒 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种具有密排尖端阳极的溅射设备，该溅射设备是在溅射腔体上设有真空管路、进气管路，并在溅射腔体内设有溅射靶材、加热体，在所述的溅射靶与样品之间设有密排尖端阳极，该密排尖端阳极是以金属作为基体，其中部镂空，镂空部分的内侧边缘是由若干个尖端体连续排列连接而成，且每个尖端体的尖端朝向镂空部分的中部，并且其镂空部分与溅射靶材相对。本发明的具有密排尖端阳极的溅射设备，是一种能够应用于平面靶溅射批量化制备YBCO薄膜材料的溅射设备，通过加载一种密排尖端的阳极，极大地消除负氧离子轰击的影响，满足批量化制备的速度和工艺窗口要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 尖端 阳极 溅射 设备 | ||
【主权项】：
1、一种具有密排尖端阳极的溅射设备，该溅射设备是在溅射腔体上设有真空管路、进气管路，并在溅射腔体内设有溅射靶材、加热体，其特征是：在所述的溅射靶材与样品之间设有密排尖端阳极，该密排尖端阳极是以金属作为基体，其中部镂空，镂空部分的内侧边缘是由若干个尖端体连续排列连接而成，且每个尖端体的尖端朝向镂空部分的中部，并且其镂空部分与溅射靶材相对。
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