[发明专利]确定光刻投影装置最佳物面和最佳像面的方法及相关装置

摘要

本发明公开了一种确定光刻投影装置最佳物面和最佳像面的方法及相关装置。其利用二维曝光的方法，即控制掩膜版与晶片在一定运动范围内步进，而在晶片上得到一组对应于不同物面、像面位置的曝光标记，比较此组曝光标记的分辨率，而确定最佳物面和最佳像面的位置。与先前技术相比，此方法所得到的最佳物面及最佳像面精度更高，且解决了先前技术中为提高精度所带来的成本问题。

主权项

1.一种确定光刻投影装置最佳物面、最佳像面的方法，其特征是，包括：投射一光束于一掩膜版，此光束通过一投影物镜在一晶片上形成对应于上述掩膜版一标记图形的一曝光标记；控制上述掩膜版及晶片在一定运动范围内步进，从而在上述晶片上得到一组曝光标记；比较此组曝光标记的分辨率，确定最佳物面和最佳像面的位置。