[发明专利]半导体装置无效

专利信息
申请号: 200710147130.8 申请日: 2007-08-30
公开(公告)号: CN101136625A 公开(公告)日: 2008-03-05
发明(设计)人: 米田阳树;藤原英明 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: H03K17/041 分类号: H03K17/041;H03K17/567;H03K17/60;H01L27/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体装置(1),具备反相器(14)和双极性晶体管(13),该反相器(14)具备:分别包括源极、漏极和栅极电极的、且相互间所述漏极区域连接的、相互间所述栅极电极彼此连接的NMOSFET(11)和PMOSFET(12);该双极性晶体管(13)包括集电极(C)、基极(B)和发射极(E),且该基极(B)被输入了反相器(14)的输出。从而提供一种高耐压、且导通电阻低、断开时间短、可稳定动作的半导体装置。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
1.一种半导体装置,具备反相器和双极性晶体管,所述反相器具备:分别包括源极、漏极和栅极电极的、且相互间所述漏极彼此连接的、相互间所述栅极电极彼此连接的第一导电型第一场效应型晶体管和第二导电型第二场效应型晶体管;所述双极性晶体管包括集电极、基极和发射极,且所述基极被输入了所述反相器的输出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三洋电机株式会社,未经三洋电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710147130.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top