[发明专利]等离子体处理装置无效

专利信息
申请号: 200710087383.0 申请日: 2007-04-03
公开(公告)号: CN101052265A 公开(公告)日: 2007-10-10
发明(设计)人: 金春植 申请(专利权)人: 爱德牌工程有限公司
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;吴贵明
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种等离子体处理装置,更具体地,涉及一种能够提供压缩气体同时防止堆积在室的底部上的颗粒飞起的等离子体处理装置。本发明的等离子处理体装置包括:室;进气/排气部,设置在室的底部以便向室供以压缩气体,所述进气/排气部被构造成使其内径向上增加;以及压缩气体源,连接至进气/排气部以便向其提供压缩气体。本装置可以进一步包括真空源,该真空源连接至进气/排气部以将所述室排空。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置
【主权项】:
1.一种等离子体处理装置,包括:室;进气/排气部,设置在所述室的底部以向所述室供以压缩气体,所述进气/排气部被构造成使得其内径向上增加;以及压缩气体源,连接至所述进气/排气部以向其提供所述压缩气体。
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